高真空加熱炉・乾燥炉 チャンバー PH226 最高温度 400℃
主な用途
高真空加熱プロセス 真空ベーク、真空乾燥炉、VCDとしてご使用いただけます。カラータッチパネル式温度コントローラ/PCC118-HVMJにより、簡単な操作にて、真空加熱プロセスをご利用いただけます。
MSAファクトリー 加熱ノウハウ
ヒータ設計、断熱、熱輻射など様々なノウハウを結集しております。またソフトウェアも高機能仕様
シンプルな本体＋豊富なオプションにより様々なアプリケーションに対応
シンプルな本体＋コントローラにより、400万円代にて、高温・真空プロセスの構築が可能です。また、豊富なオプション、カスタム対応により、御社に最適な機種構築が可能です。
＊オプションリストはこちら PH224_225_OP1 ＊その他のオプションはお問合せください。
＊PH225 カタログはこちら PH225カタログ （英語版 PH225_EN）
高性能
ホットプレート加熱ですので、均一な加熱が可能です。ワークの処理時間も短時間で、従来プロセスとの時間をぜひ、比較してください。
長時間加熱／超高温真空加熱
1時間を超える加熱工程、超高温（400℃）対応。ワークの長時間対応として、水冷機能付き（オプション）、チラーおよび循環冷却水が別途必要となります。
安全性
過昇温監視機能、非常停止機能、漏電検知機能、負荷断線機能などを盛り込んだ安全機能がコントローラに装備されています。
機種一覧
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型番 |
PH226-3020 |
PH226-3030 |
PH226-4030 |
PH226-4020 |
最高温度 |
300℃ | 300℃ | 400℃ | 400℃ |
真空度 |
１×10^-3Pa程度 | |||
プレートサイズ |
250×100mm | φ320mm | φ320mm | φ220mm |
プレート材質 |
アルミ合金 | |||
電源電圧 |
AC200V | AC200 | AC200V | AC200V |
適合温度
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PCC118HV-TP | |||
コントローラ |
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オプション |
酸素濃度計、温度モニタ用センサ、真空圧自動調整
露点計、ガラス観察用窓、長時間加熱冷却ユニット 排気トラップ（低融点材料対応）など |
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